北方華創如何應對內捲，提升產品競爭力？

中國半導體設備龍頭北方華創（NAURA）正透過擴張產品線與深化關鍵技術研發，積極應對國內市場的激烈競爭。根據市場消息，北方華創已於 2023 年底祕密啟動曝光系統（Lithography）的初步研究，並組建專門工程小組，試圖打破目前由上海微電子（SMEE）壟斷的國產曝光機市場。此外，該公司持續強化其核心的蝕刻與沉積設備優勢，配合如自對準四重圖案化（SAQP）等先進製程技術，旨在減少對艾司摩爾（ASML）高階設備的依賴，確保在美方出口管制下，仍能提供本土晶圓廠穩定的先進製程解決方案。

這種跨足曝光設備的戰略轉向，本質上是為了在高度受限的國際貿易環境中，建構更具韌性的垂直整合生態系。北方華創深知單一設備的領先已不足以在「內捲」嚴重的本土市場脫穎而出，唯有掌握蝕刻、沉積與曝光三大核心環節的協同效應，才能在 SAQP 等替代路徑中取得主導權。這不僅能降低下游客戶因制裁導致的斷鏈風險，更透過技術門檻的提升，將競爭層次從單純的價格戰拉升至系統級的解決方案。長期來看，這種全方位的佈局將迫使國內同業加速轉型，並在中國半導體自主化的進程中，確立其不可替代的戰略地位。